歡迎光顧金蒙新材料官方網(wǎng)站!

山東金蒙新材料股份有限公司

金蒙新材料
國家高新技術企業(yè)
服務熱線:
4001149319
當前位置:首頁 » 金蒙資訊 » 金蒙新材料百科 » 碳化硅反射鏡的制作難點

碳化硅反射鏡的制作難點

文章出處:粉體網(wǎng)網(wǎng)責任編輯:作者:粉體圈人氣:-發(fā)表時間:2022-01-08 08:43:00【

隨著技術發(fā)展,碳化硅反射鏡的應用領域正在不斷擴大,在空間對地觀測、深空探測、天文觀測和量子通訊等方面都能看到它的身影。

但是,這些高性能空間光學元件往往會要求具有超光滑表面(表面粗糙度<1nmRMS),因此碳化硅材料在反射鏡應用方面主要面臨以下兩方面困難:

一方面,由于SiC材料比剛度大,化學穩(wěn)定性高,很難通過機械力拋光的方法直接獲得高質量的SiC光學鏡面;

另一方面,非常難以直接制備完全致密的SiC材料,殘留的氣孔等缺陷會影響光學加工質量,最終影響鏡面質量。不過令人意外的是,后者的影響其實遠比前者要小。

相關資訊